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バンデイオパジヤイ，プラスンクマール，ガウラブ JP 2014139228 公開特許公報(A) 20140731 2014073684 20140331 光安定性化粧用組成物 ユニリーバー・ナームローゼ・ベンノートシヤープ 590003065 小野 誠 100114188 金山 賢教 100119253 坪倉 道明 100124855 重森 一輝 100129713 安藤 健司 100137213 市川 英彦 100143823 青木 孝博 100151448 岩瀬 吉和 100146318 城山 康文 230105223 バンデイオパジヤイ，プラスン クマール，ガウラブ IN 1322/MUM/2006 20060824 EP 07003975.5 20070227 A61K 8/35 20060101AFI20140704BHJP A61K 8/36 20060101ALI20140704BHJP A61K 8/37 20060101ALI20140704BHJP A61K 8/86 20060101ALI20140704BHJP A61K 8/39 20060101ALI20140704BHJP A61Q 17/04 20060101ALI20140704BHJP A61Q 19/00 20060101ALI20140704BHJP JPA61K8/35A61K8/36A61K8/37A61K8/86A61K8/39A61Q17/04A61Q19/00 13 2009525022 20070814 ＯＬ 17 4C083 4C083AB032 4C083AC072 4C083AC181 4C083AC182 4C083AC211 4C083AC212 4C083AC242 4C083AC341 4C083AC342 4C083AC352 4C083AC442 4C083AD041 4C083AD042 4C083AD152 4C083AD632 4C083CC03 4C083CC19 4C083DD23 4C083DD27 4C083EE01 本発明は、日焼け止め剤を含む光安定性化粧用組成物、更に詳しくはジベンゾイルメタンの日焼け止め剤を含有する化粧用組成物に関する。 波長が３２０から４００ｎｍの紫外線Ａが皮膚の色素沈着、局限性刺激、日焼けおよび黒色腫を起こすことは広く知られている。また、波長が２８０ｎｍから３２０ｎｍの紫外線Ｂが、各種の他の短期および長期の損傷、例えば、光による皮膚の老化、乾燥、深い皺の発生、まだらな色素沈着および弾性組織とコラーゲンの破損を起こすことに加えて、ヒトの表皮の色素沈着を促進することも知られている。従って、皮膚を、紫外線の有害な作用から保護することが望ましい。 皮膚に対する紫外線の有害作用を防止し、および／または皮膚をこの有害作用から保護する各種の化粧品が報告されている。また、有害な紫外線Ａを吸収できる多数の有機日焼け止め剤が化粧品の分野で報告されているが、なかでも特に有利な有機日焼け止め剤はジベンゾイルメタンとこの誘導体である。これは、これら日焼け止め剤が固有の高い吸光力を示しているからである。一方、ｐ−メトキシケイ皮酸とこの誘導体は非常に有効な紫外線Ｂ日焼け止め剤であるので、広く使用されている。化粧用組成物は、紫外線の全領域にわたって保護するように、紫外線ＡとＢの日焼け止め剤の両者を含有することが不可欠である。 ジベンゾイルメタンとこの誘導体は紫外線に対して比較的敏感であり、日光の作用下で迅速に分解することが知られている。この分解反応は、紫外線Ｂ日焼け止め剤、特にｐ−メトキシケイ皮酸とこの誘導体の存在下で促進される。ジベンゾイルメタンとこの誘導体が紫外線Ｂ日焼け止め剤、特にｐ−メトキシケイ皮酸とこの誘導体の存在下で、光化学的に不安定であるため、日光に長期間さらされている間、常に保護することは保証出来ない。従って、紫外線に対する有効な保護を維持するため、使用者は、規則的に、および頻繁に塗布を繰り返さなければならない。 一方、化粧用日焼け止め組成物がもたらす保護は、時間の経過とともに低下し、一般に、塗布してから１時間後までに、ほとんど無視できるほどになることも知られている。従って、ジベンゾイルメタンとこの誘導体を安定化することは、使用者がこれら薬剤の効力を完全に利用して再々塗布することに頼らなくてもよいように、重要になっている。 化粧用製剤中のジベンゾイルメタンとこの誘導体を安定化する各種の方法が、報告されており、増粘性コポリマー、両親媒性コポリマーおよび微粒化された不溶性有機紫外線日焼け止め剤などの安定剤を使用する方法がある。 別の解決策として、米国特許第５ ９８５ ２５１号（Ｒｏｃｈｅ Ｖｉｔａｍｉｎｓ、１９９９年）に、ジベンゾイルメタン誘導体とｐ−メトキシケイ皮酸誘導体を含有する組成物が、０．５〜１２重量％の３，３−ジフェニルアクリレートの誘導体またはベンジリデンショウノウの誘導体を加えることによって安定化される光遮断性化粧品が記載されている。この製剤は、紫外線Ａ日焼け止め剤を安定化するためジフェニルアクリレートのクラスの追加の紫外線Ｂ日焼け止め剤を必ず含有していなければならず、この紫外線Ｂ日焼け止め剤は、重要な役目である皮膚の保護を行なうことなく、紫外線Ａ日焼け止め剤を安定化するため大部分消費されてしまうことは容易に分かる。また、追加の日焼け止め剤を加えると製剤のコストも増大する。 従って、特にｐ−メトキシケイ皮酸またはこの誘導体の存在下で安定化され、また特別なポリマーおよび／または追加の日焼け止め剤の安定剤を特に必要としない、ジベンゾイルメタンまたはこの誘導体を含有する化粧用組成物が要求されている。化粧品に従来使用されている成分で安定化され、その結果、処方の複雑さが低下しコストがかなり低下する化粧用組成物を得ることが非常に望ましい。本発明者らは、驚くべきことには、ジベンゾイルメタンまたはこの誘導体ならびにｐ−メトキシケイ皮酸またはこの誘導体を含有する化粧用組成物が、脂肪族アルコールエトキシレートおよびポリアルキレングリコールの組合せを組み込むことによって安定化できることを発見した。 従って、本発明の目的は、先行技術の少なくとも幾つかの欠点を取り除いて、日焼け止め剤を含む光安定性化粧用組成物を提供することである。 本発明のもう一つの目的は、ジベンゾイルメタンの日焼け止め剤を含有し、この日焼け止め剤が、従来使用されている成分を使って安定化される光安定性組成物を提供することである。米国特許第５ ９８５ ２５１号 一態様では、本発明は、 ０．１から１０重量％のジベンゾイルメタンまたはこの誘導体、および ０．１から１０重量％のｐ−メトキシケイ皮酸またはこの誘導体、 を含み、更に０．５から８重量％のＣ８からＣ１８脂肪族アルコールエトキシレートおよび０．５から８重量％のポリアルキレングリコールを含む光安定性化粧用組成物に関する。 ジベンゾイルメタンまたはこの誘導体は、組成物の好ましくは０．１から５重量％存在し、より好ましくは０．１から２重量％存在する。 また、ｐ−メトキシケイ皮酸またはこの誘導体は、組成物の好ましくは０．１から５重量％存在し、より好ましくは０．１から２重量％存在する。 最も好ましい態様では、ジベンゾイルメタンの誘導体は４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタンであり、およびｐ−メトキシケイ皮酸の誘導体は２−エチル−ヘキシル−ｐ−メトキシケイ皮酸である。 脂肪族アルコールエトキシレートは組成物の０．５から４重量％存在していることが好ましい。 好ましい態様では、ポリアルキレングリコールは０．５から４重量％存在している。 好ましい態様では、ポリアルキレングリコールの分子量は、２００から１０００００ダルトンであり、より好ましくは２００から１００００ダルトンである。 用語「化粧用組成物」は、本明細書で使用される場合、塗布したままの製品および洗い流す製品を含む、ヒトの皮膚に局所塗布する組成物を意味するものである。用語「皮膚」には、本明細書で使用される場合、顔面、頸部、胸部、背部、上腕、手および脚部の皮膚ならびに頭皮が含まれている。 疑問を避けるため、用語「含んでいる（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」は、「含んでいる（ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ）」を意味するが、必ずしも「からなっている（ｃｏｎｓｉｓｔｉｎｇ ｏｆ）」または「で構成されている（ｃｏｍｐｏｓｅｄ ｏｆ）」を意味しないものとする。別の言い方をすれば、用語「含んでいる（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」が挙げている選択肢がすべてを網羅している必要はない。 本発明の他の特徴、態様および利点ならびに本発明の不可欠の、好ましいおよび任意の特徴は、下記詳細な説明を読めば明らかになる。（発明の詳細な説明） 好ましいジベンゾイルメタンの誘導体は、４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、２−メチルジベンゾイルメタン、４−メチルジベンゾイル−エタン、４−イソプロピルジベンゾイル−メタン、４−ｔｅｒｔ−ブチルジベンゾイルメタン、２，４−ジメチルジベンゾイルメタン、２，５−ジメチルジベンゾイルメタン、４，４’−ジイソプロピルジベンゾイルメタン、２−メチル−５−イソプロピル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、２−メチル−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシ−ジベンゾイルメタン、２，４−ジメチル−４’−メトキシジベンゾイルメタンまたは２，６−ジメチル−４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシ−ジベンゾイルメタンから選択される。最も好ましいジベンゾイルメタンの誘導体は４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタンである。 好ましいｐ−メトキシケイ皮酸の誘導体は、２−エチルヘキシル−ｐ−メトキシケイ皮酸、ｐ−メトキシケイ皮酸アンモニウム、ｐ−メトキシケイ皮酸ナトリウム、ｐ−メトキシケイ皮酸カリウムまたはｐ−メトキシケイ皮酸の第一級、第二級もしくは第三級のアミンの塩から選択され、より好ましいものは２−エチルヘキシル−ｐ−メトキシケイ皮酸である。 脂肪族アルコールエトキシレート（エトキシ化された脂肪族アルコールとしても知られている。）は、一般式：Ｒ−Ｏ−（ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ）ｎＨ（式中、Ｒは１０から２４個の炭素原子を有する飽和もしくは不飽和の直鎖もしくは分枝の炭化水素系連鎖であり、およびｎは８から５０の範囲内の整数である。）で表される。 脂肪族アルコールエトキシレートは、第一級アルコールにエチレンオキシドを付加した生成物である。これらエトキシレートは、既知の方法で製造され、基本的に混合物である。これらエトキシレートは、この製造法によっては、通常の広い同族分布（ｈｏｍｏｌｏｇ ｄｉｓｔｒｉｂｕｔｉｏｎ）または狭い同族分布を示し得る。このエトキシ化度（ＥＯ：付加されたエチレンオキシド単位の数）はガウス分布を示し、このガウス曲線の最大値は、本明細書では、平均エトキシ化度「ｎ」と呼称する。 カプロンアルコール、カプリルアルコール、２−エチルヘキシルアルコール、カプリンアルコール、ラウリルアルコール、イソトリデシルアルコール、ミリスチルアルコール、セチルアルコール、パルミトレイルアルコール、ステアリルアルコール、イソステアリルアルコール、オレイルアルコール、エライジルアルコール、ペトロセリニルアルコール、リノリルアルコール、リノレニルアルコール、エレオステアリル（ｅｌａｅｏｓｔｅａｒｙｌ）アルコール，アラキルアルコール、ガドレイルアルコール、ベヘニルアルコール、エルシリ（ｅｒｕｃｙｌ）アルコール、およびブラシジルアルコールおよびこの工業用混合物にエチレンオキシドを付加した生成物が好ましい。エトキシ化脂肪族アルコールの代表例は、ラウリルアルコールにエチレンオキシドを付加した生成物で特に９から５０個のオキシエチレン化基を含有する生成物（ＣＴＦＡの名称Ｌａｕｒｅｔｈ−９とＬａｕｒｅｔｈ−５０を有する。）；ベヘニルアルコールにエチレンオキシドを付加した生成物で特に９から５０個のオキシエチレン化基を含有する生成物（ＣＴＦＡの名称Ｂｅｈｅｎｅｔｈ−９からＢｅｈｅｎｅｔｈ−５０を有する。）；セテアリル（ｃｅｔｅａｒｙｌ）アルコール（セチルアルコールとステアリルアルコールの混合物）にエチレンオキシドを付加した生成物で、特に９から３０個のオキシエチレン化基を含有する生成物（ＣＴＦＡ名称Ｃｅｔｅａｒｅｔｈ−９からＣｅｔｅａｒｅｔｈ−３０を有する。）；セチルアルコールにエチレンオキシドを付加した生成物で特に９から３０個のオキシエチレン化基を含有する生成物（ＣＴＦＡ名称Ｃｅｔｅｔｈ−９からＣｅｔｅｔｈ−３０を有する。）；ステアリルアルコールにエチレンオキシドを付加した生成物で特に９から３０個のオキシエチレン化基を含有する生成物（ＣＴＦＡ名称Ｓｔｅａｒｅｔｈ−９からＳｔｅａｒｅｔｈ−３０を有する。）；イソステアリルアルコールにエチレンオキシドを付加した生成物で特に９から５０個のオキシエチレン化基を含有する生成物（ＣＴＦＡ名称Ｉｓｏｓｔｅａｒｅｔｈ−９からＩｓｏｓｔｅａｒｅｔｈ−５０を有する。）；およびこの混合物である。 より好ましいアルコールエトキシレートは、８から１８個の炭素原子を有する脂肪族アルコールにエチレンオキシドを付加した生成物、即ちＣ８からＣ１８脂肪族アルコールエトキシレートであり、非常に好ましい態様では、このアルコールはラウリルアルコールであり、１２個の炭素原子を有する。この生成物は、商品名Ｂｒｉｊ（登録商標）３５（ｌａｕｒｅｔｈ−３５、３５個のＥＯ単位を有するラウリルアルコール）で市販されている。エトキシ化度による幾つかのグレードのＢｒｉｊが入手できる。 適切なポリアルキレングリコールは、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールまたはポリブチレングリコールから選択され、ポリエチレングリコールが好ましい。 本発明の組成物は、当分野で既知のどのような化粧用賦形剤／担体を含んでいてもよい。適切な賦形剤としては、限定されないが、下記のもの即ち、植物油類；エステル類、例えばパルミチン酸オクチル、ミリスチン酸イソプロピルおよびパルミチン酸イソプロピルなど；エーテル類、例えばジカプリルエーテルおよびジメチルイソソルバイドなど；アルコール類、例えばエタノールおよびイソプロパノールなど；脂肪族アルコール類、例えばセチルアルコール、ステアリルアルコールおよびベヘニルアルコールなど；イソパラフィン類、例えばイソオクタン、イソドデカンおよびイソヘキサデカンなど；シリコーン油類、例えばジメチコーン類、環状シリコーン類およびポリシロキサン類；炭化水素油類、例えば鉱油、ペトロラタム、イソエイコサンおよびポリイソブテンなど；ポリオール類、例えばプロピレングリコール、エトキシジグリコール、グリセリン、ブチレングリコール、ペンチレングリコールおよびヘキシレングリコールなど；ならびに水またはこれらの任意の組合せの一種または二種以上がある。また、１０から３０個の炭素原子を有する脂肪酸も、本発明の組成物用の化粧品として許容できる担体に含まれ得るが、この範疇のものの例は、ペラルゴン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、イソステアリン酸、ヒドロキシステアリン酸、オレイン酸、リノール酸、リシノール酸、アラキドン酸、ベヘン酸およびエルカ酸である。 多価アルコールタイプの湿潤剤も、本発明の組成物に、化粧品として許容できる担体として使用できる。この湿潤剤は、皮膚軟化薬の効力増大を促し、皮膚の乾燥を低下させ皮膚の感触を改善する。典型的な多価アルコールとしては、グリセリン、ポリアルキレングリコール類およびより好ましくはアルキレンポリオール類とこの誘導体があり、これらグリコール類としては、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリエチレングリコールおよびこれらの誘導体、ソルビトール、ヒドロキシプロピルソルビトール、ヘキシレングリコール、１，３−ブチレングリコール、１，２，６−ヘキサントリオール、エトキシ化グリセリン、プロポキシ化グリセリンおよびこの組合せがある。湿潤剤の量は、組成物の０．５から３０重量％の範囲内であればよく、好ましくは１から１５重量％である。 本発明の組成物中の化粧品として許容できる賦形剤の量は、製品の形態によって著しく変化するが、通常、組成物の全重量に対して約２０から約７０重量％であり、好ましくは約２０から約４０重量％である。この化粧品として許容できる賦形剤は、本発明の組成物を皮膚に塗布したとき日焼け止め剤が分散しやすくなるように、組成物中の日焼け止め剤に対する希釈剤、分散剤または担体として働く。 本発明の組成物は、エマルジョン型の場合、本発明の範囲を逸脱することなく、一種以上の追加の乳化剤を場合により含有していてもよく、この乳化剤は、好ましくは、ソルビタンエステル類；ジメチコーンコポリオール類；ポリグリセリル−３−ジイソステアレート、例えばソルビタンモノオレエートとソルビタンモノステアレートなど；グリセリンエステル類、例えばグリセリンモノステアレートとグリセリンモノオレエートなど；ポリオキシエチレンフェノール類、例えばポリオキシエチレンオクチルフェノールとポリオキシエチレンノニルフェノールなど；ポリオキシエチレンエーテル類、例えばポリオキシエチレンセチルエーテルとポリオキシエチレンステアリルエーテルなど；ポリオキシエチレングリコールエステル類；ポリオキシエチレンソルビタンエステル類；ジメチコーンコポリオール類；ポリグリセリル−３−ジイソステアレートまたはこの任意の組合せから選択される。油中水型エマルジョンまたは水中油型エマルジョンを提供するため、乳化剤とともに、使用される乳化剤の平均親水性親油性比（ＨＬＢ）に対応して、油または油状物質が存在していてもよい。好ましいアニオン界面活性剤としては、セッケン、硫酸アルキルエーテル類、スルホン酸アルキルエーテル類、硫酸アルキル類、スルホン酸アルキル類、アルキルベンゼンスルホン酸類、スルホコハク酸アルキル、スルホコハク酸ジアルキル、イセチオン酸Ｃ９からＣ２０アシル類、グルタミン酸アシル類、リン酸Ｃ８からＣ２０アルキルエーテル類およびこの組合せがある。通常、追加の乳化剤は、組成物の全重量に対して１から約１２重量％存在していてもよい。水は、存在している場合、この量は、本発明の組成物の５から７５重量％であり、好ましくは２０から７０重量％であり、最適なのは４０から７０重量％である。 水以外の比較的揮発性の溶媒も本発明の組成物において担体として働く。一価のＣ１からＣ３アルカノール類が最も好ましい。このアルカノールとしてはエチルアルコールとイソプロピルアルコールがある。 好ましいクリームベースは、例えば、みつろう、セチルアルコール、ステアリン酸、グリセリン、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノステアレート、ポリオキシエチレンセチルエーテルなどである。好ましいローションベースとしては、例えば、オレイルアルコール、エタノール、プロピレングリコール、グリセリン、ラウリルエーテル、ソルビタンモノラウレートなどがある。 本発明の組成物は、被膜を形成するスキンパックまたはスキンマスクの形状である場合、当分野で既知の被膜形成剤を含んでいる。この被膜形成剤としては、アクリレートコポリマー類、アクリレートＣ１２からＣ２２アルキルメタクリレートコポリマー、アクリレート／オクチルアクリルアミドコポリマー類、アクリレート／ＶＡコポリマー、アモジメチコーン、ＡＭＰ／アクリルレートコポリマー類、ベヘニルみつろう、ベヘニル／イソステアリル、みつろう、ブチル化ＰＶＰ、ＰＶＭ／ＭＡのブチルエステルのコポリマー類、カルシウム／ナトリウムＰＶＭ／ＭＡコポリマー類、ジメチコーン、ジメチコーンコポリオール、ジメチコーン／メルカプトプロピルメチコーンコポリマー、ジメチコーンプロピルエチレンジアミンベヘネート、ジメチコルノールエチルセルロース、エチレン／アクリル酸コポリマー、エチレン／ＭＡコポリマー、エチレン／ＶＡコポリマー、フルオロＣ２から８アルキルジメチコーン、ヘキサンジオールみつろう、Ｃ３０から３８オレフィン／マレイン酸イソプロピル／ＭＡコポリマー、水素化スチレン／ブタジエンコポリマー、ヒドロキシエチルエチルセルロース、イソブチレン／ＭＡコポリマー、ラウリルメチコーンコポリオール、メタクリル酸メチルクロスポリマー、メチルアクリロイルエチルベタイン／アクリレートコポリマー、結晶ワックス、ニトロセルロース、オクタデセン／ＭＡコポリマー、オクタデセン／無水マレイン酸コポリマー、オクチルアクリルアミド／アクリレート／メタクリル酸ブチルアミノエチルコポリマー、酸化ポリエチレン、ペルフルオロポリメチルイソプロピルエーテル、ポリアクリル酸、ポリエチレン、ポリメタクリル酸メチル、ポリプロピレン、ポリクオータニウム（ｐｏｌｙｑｕａｔｅｒｎｉｕｍ）−１０、ポリクオータニウム−１１、ポリクオータニウム−２８、ポリクオータニウム−４、ＰＶＭ／ＭＡデカジエンクロスポリマー、ＰＶＭ／ＭＡコポリマー、ＰＶＰ、ＰＶＰ／デセンコポリマー、ＰＶＰ／エイコセンコポリマー、ＰＶＰ／ヘキサデセンコポリマー、ＰＶＰ／ＭＡコポリマー、ＰＶＰ／ＶＡコポリマー、シリカ、シリカジメチルシリレート、アクリル酸ナトリウム／ビニルアルコールコポリマー、ステアロキシジメチコーン、ステアロキシトリメチルシラン、ステアリルアルコール、ステアリルビニルエーテル／ＭＡコポリマー、スチレン／ＤＶＢコポリマー、スチレン／ＭＡコポリマー、テトラメチルテトラフェニルトリシロキサン、トリコンタニルトリメチルペンタフェニルトリシロキサン、トリメチルシロキシシリケート、ＶＡ／クロトネートコポリマー、ＶＡ／クロトネート／ビニルプロピオネートコポリマー、ＶＡ／ブチルマレエート／イソボルニルアクリレートコポリマー、ビニルカプロラクタム／ＰＶＰ／ジメチルアミノエチルメタクリレートコポリマーおよびビニルジメチコーンがある。 上記被膜形成剤は、組成物の全重量に対して、好ましくは約０．５から約５重量％の量で、より好ましくは約１から約５重量％の量で存在している。より好ましくは、被膜形成剤は、組成物の全重量に対して約３重量％の量で存在している。 本発明の組成物は、場合により、キレート化剤、植物抽出物、着色剤、デピグメンティング剤（ｄｅｐｉｇｍｅｎｔｉｎｇ ａｇｅｎｔ）、皮膚軟化薬、剥脱剤、芳香剤、湿潤剤、保湿剤、防腐剤、皮膚保護剤、皮膚浸透促進剤、安定剤、増粘剤、粘度調整剤、ビタミン、抗加齢剤、皺減少剤、皮膚白色化剤、抗アクネ剤および皮脂減少剤またはこの組合せから選択される一種以上の成分を含んでいてもよい。これら薬剤の例としては、αヒドロキシ酸とエステル類、βヒドロキシ酸とエステル類、ポリヒドロキシ酸とエステル類、コウジ酸とエステル類、フェルラ酸とこの誘導体類、バニリン酸とエステル類、二酸類（例えばセバシン酸とＡｚｏｌｅｉｃ ａｃｉｄ類）とエステル類、レチノール、レチナール、レチニルエステル類、ヒドロキノン、ｔ−ブチルヒドロキノン、桑の実の抽出物、甘草の抽出物およびレゾルシノール誘導体類、例えば４−置換レゾルシノール誘導体類ならびに追加の日焼け止め剤、例えば紫外線拡散剤類から選択される一種以上の成分を含んでいてもよく、尚この紫外線拡散剤の代表的なものは、一般に５ｎｍから１００ｎｍ、好ましくは１０ｎｍから５０ｎｍの範囲内にある微粉砕された酸化チタンと酸化亜鉛であるが、コートされているかまたはコートされていない金属酸化物例えばナノピグメントの酸化チタン（無定形または結晶のルチル型および／またはアナターゼ型）、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化ジルコニウムまたは酸化セリウムがあり、これらはすべてこれ自体周知の光防御剤であり、紫外線を物理的に遮断する（反射および／または分散）ことによって作用する。更に、標準のコーティング剤はアルミナおよび／またはステアリン酸アルミニウムである。本発明の組成物は、人工的に皮膚に色素を沈着させおよび／または皮膚を日焼けさせる（自己色素沈着剤）薬剤、例えばジヒドロキシ−アセトン（ＤＨＡ）を含有していてもよい。 増粘剤も、本発明の範囲を逸脱することなく、本発明の組成物の化粧品として許容できる担体の一部として利用できる。代表的な増粘剤としては、架橋されたアクリレート類（例えばＣａｒｂｏｐｏｌ ９８２）、疎水性に改質されたアクリレート類（例えばＣａｒｂｏｐｏｌ １３８２）、セルロース誘導体類および天然ガム類がある。有用なセルロース誘導体としては、カルボキシメチルセルロースナトリウム、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、エチルセルロースおよびヒドロキシメチルセルロースがある。本発明に適切な天然ガム類としては、グアガム、キサンタンガム、菌核ガム、カラゲーナンガム、ペクチンガムおよびこれらガムの組合せがある。増粘剤の量は、０．０００１から５重量％の範囲内であり、通常、０．００１から１重量％であり、０．０１から０．５重量％が最適である。 本発明の化粧用組成物は、場合により、起泡性界面活性剤を含有していてもよい。用語「起泡性界面活性剤」は、水と混合して機械的に撹拌すると泡を発生する即ち起泡する界面活性剤を意味する。好ましくは、この起泡性界面活性剤は、使い心地が穏やかでなければならず、十分なクレンジング作用または洗浄作用を示すが皮膚を過度に乾燥せずしかも上記起泡基準を満たさねばならない。本発明の化粧用組成物は、起泡性界面活性剤を約０．０１から約５０％の濃度で含有していてもよい。この濃度は、一般に、洗い流し用製品、例えば顔面洗い流し用製品に必要である。 本発明の化粧用組成物は、前記必須成分の外に、先に述べた日焼け止め剤とは異なる一種以上の追加の日焼け止め剤で、水溶性、油溶性または通常使用される化粧品用溶媒に不溶性の日焼け止め剤を含有していてもよい。このような日焼け止め剤は、サリチル酸誘導体類、ベンジリデンショウノウ誘導体類、トリアジン誘導体類、ベンゾフェノン誘導体類、［β］，［β］’−ジフェニルアクリレート誘導体類、フェニル−ベンゾイミダゾール誘導体類、アントラニル酸誘導体類、イミダゾリン誘導体類、メチレンビス（ヒドロキシフェニル−ベンゾトリアゾール）誘導体類、ｐ−アミノ安息香酸誘導体類、遮断用の炭化水素系ポリマー類および遮断用シリコーン誘導体類から適切に選択できる。 好ましい有機紫外線遮断剤は、下記の化合物：サリチル酸エチルヘキシル、オクトクリレン、フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、テレフタリリデンジショウノウスルホン酸、ベンゾフェノン−３、ベンゾフェノン−４、ベンゾフェノン−５、４−メチルベンジリデン、ベンゾイミダジレート、アニソトリアジン、２，４，６−トリス（ジイソブチル４’−アミノベンザルマロネート）−ｓ−トリアジン、エチルヘキシルトリアゾン、ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、メチレンビス（ベンゾトリアゾリル）テトラメチルブチル−フェノール、ドロメトリゾールトリシロキサンおよびこの混合物から選択される。 本発明を適用できる化粧品の具体的製剤としては、クリーム類、軟膏類、乳剤類、ローション類、油剤類と顔面パック類、バルサム、ゲル、ムース、スティックまたはヘアゲル類、ヘアクリーム類などがある。乳剤としては、例えば、無水物、油中水、水中油、シリコーン中水または複エマルジョンがある。毛髪を保護する場合、適切な製剤は、シャンプー、コンディショナー、ローション剤、ゲル剤、乳剤、分散剤、ラッカー剤などがある。 本発明の化粧用組成物は、粘度が４，０００から１０，０００ｍＰａのローション剤、粘度が１０，０００から２０，０００ｍＰａの液体クリーム剤または粘度が２０，０００から１００，０００ｍＰａ以上のクリーム剤として製剤できる。尚これらの粘度はすべて２５℃で測定した。 本発明の上記組成物は、主として、日光に過度にさらされることによる有害な作用から、被曝皮膚を保護するために、ヒトの皮膚に局所塗布する個人介護用製品として意図されている。 使用時は、少量の組成物、例えば約０．１から約５ｍｌを、適切な容器または塗布器から、皮膚の被曝領域に塗布し、および必要に応じて、手または指または適切な器具を使って、皮膚に薄く延ばして塗布するかまたは擦り込む。 本発明およびこの利点を更に例示するため、以下の具体的な実施例を提供するが、例示することのみを目的とし決して限定するものではないことを理解されたい。下記実施例における量部と百分率はすべて、特に断らない限り、重量基準である。（実施例１） 本発明の脂肪族アルコールエトキシレートとポリエチレングリコールの組合せを使って行なうジベンゾイルメタン誘導体の安定化の実験による証明 各種の化粧用クリーム組成物を、下記表１に示す処方の詳細通りに調製した。 処理工程 １．水、水酸化カリウム、ＥＤＴＡ、ｐ−カシトース（ｃａｓｉｔｏｓｅ）およびグリセリンの秤量重量を１００ｍｌビーカー（容器Ａ）に採取した。 ２．ミリスチン酸イソプロピル、ジメチコーン２００、Ｐａｒｓｏｌ １７８９、Ｐａｒｓｏｌ ＭＣＸ、プロピルパラベン、メチルパラベン、セチルアルコールおよびフェノキシエタノールの秤量重量をもう一つのビーカー（容器Ｂ）に採取した。 ３．ステアリン酸を、別の容器内で、７０℃に加熱して溶融させた。 ４．容器Ｂの内容物を７０℃で溶融させた。 ５．容器Ｂを、低せん断速度（５００から７００ｒｐｍ）で連続的に均質化しながら７５℃に加熱した。 ６．７０℃に達した後、溶融したステアリン酸を、容器Ａに、撹拌し続けながらゆっくり加えた。 ７．１〜２分間撹拌した後、Ｂｒｉｊ ３５／Ｔｗｅｅｎ ８０／Ｓｐａｎ ８０を添加し、次いでこの回転中の混合物中にＰＥＧ−２００を添加し、次にＴｉＯ２を添加した。 ８．容器Ｂの溶融塊を容器Ａに加えた。 ９．均質化のせん断速度を１０００から１２００ｒｐｍまで高くして均質化を５分間続けた。 １０．その後、上記熱混合物を、低速度（５００から７００ｒｐｍ）で撹拌し続けながら、室温下で冷却させた。 １１．６０℃でナイアシンアミドを添加した。 １２．混合物を室温まで冷却させた。 試験方法 下記試験方法を利用して、本発明の組成物および下記比較実施例すべての組成物のジベンゾイルメタン日焼け止め剤の安定性を測定した。 １．清浄なスライドガラスをとりこの重量を記録した（Ａ）。 ２．クリーム剤約１０ｍｇを塗布して約２ｃｍ２の広さに延ばした。 ３．クリーム剤を塗布したスライドガラスの重量を記録した（Ｂ）。 ４．ＢからＡを差し引いて塗布したクリーム剤の重量を得た（Ｃ）。 ５．上記工程を、各試験製剤について６回ずつ繰り返した。 ６．これらのスライドガラスをそれぞれ、同時に、太陽光に、０分間、１５分間、３０分間および６０分間暴露した。 ７．太陽光に暴露した後、これらクリーム剤をメタノールで抽出し、抽出液の容積を２５ｍｌにした。 ８．各試料の紫外線吸光度を紫外線分光光度計に記録した。 ９．試料の単位重量当たりの吸光度を、λｍａｘ（即ちジベンゾイルメタン類のλｍａｘは３５７ｎｍである。）における吸光度をクリーム剤の重量（Ｃ）で割算することによって計算した。 １０．試料の安定性の指標である吸光度残存率を以下のようにして計算した。 吸光度残存率＝［Ａｎ／Ａ０×１００］（式中、Ａ０は０分間試料の「単位重量当たりの吸光度」であり、およびＡｎはｎ分間試料の「単位重量当たりの吸光度」である。）。実施例１で行なった実験の結果は下記表２に要約してある。太陽光の強度は、スライドガラスを太陽光に暴露した時間で、２０から４０ｍＷ／Ｃｍ２変化することが分かっており、および実験は異なる日に実施したことに留意すべきである。従って、全期間に渡って実施した同一／類似の実験、例えば対照試料を使用する実験の吸光度（％）の絶対値は表ごとに異なる。 上記表は、ＰＥＧ ２００とＢｒｉｊ−３５の両者を含有する製剤の場合、吸光度から分かるように、塗布して１時間後に、ジベンゾイルメタン日焼け止め剤の有意に高い活性を利用できることを示している。（実施例２） ジベンゾイルメタン日焼け止め剤の安定性に対するポリエチレングリコールと他の界面活性剤の組合せの効果を試験するため、この組合せと、本発明のポリエチレングリコールとＢｒｉｊ ３５の組合せとを比較した。 試験結果を下記表３に要約した。 このようにして、ポリエチレングリコールと脂肪族アルコールエトキシレートの組合せは、ポリエチレングリコールと他の界面活性剤／乳化剤の組合せと比べて、より優れた安定性を与えることが容易に分かる。（実施例３） また、本発明者らは、ポリエチレングリコールの分子量を変えた場合の、ジベンゾイルメタンの安定性に対する効果を測定した。この実験の結果を下記表４に要約した。 上記表は、各種分子量のポリエチレングリコールによって、塗布して１時間後でさえ、ジベンゾイルメタン誘導体の７０％以上が残存し利用できることを示している。この試験結果は、本発明の範囲を逸脱することなく、分子量が２００から１０００００までのどのＰＥＧも使用できることを示している。（実施例４） 更に別の一組の実験で、２グレードの脂肪族アルコールエトキシレート（Ｂｒｉｊ）の、ジベンゾイルメタン日焼け止め剤の安定性に対する効果を、化粧用クリーム剤で試験し、この試験結果を下記表５に要約した。（注：Ｂｒｉｊ ５６はポリエチレングリコールヘキサデシルエーテル即ちポリオキシエチレン１０セチルエーテル（ＣＡＳ番号９００４−９５−９）（ＵｎｉｑｕｅｍａまたはＳｉｇｍａ−Ａｌｄｒｉｃｈ）である。）。 このようにして、異なるグレードの脂肪族アルコールエトキシレートが、組成物中のジベンゾイルメタン日焼け止め剤に高い安定性を付与することが容易に分かる。（実施例５） 化粧用ローションにおいてジベンゾイルメタン誘導体の安定性を試験して、異なる担体／賦形剤を使った本発明を試験した。この処方の詳細は下記表６に示してある。また処理工程の詳細は以下に記載してある。試験結果は下記表７に要約した。 処理工程 １．二ナトリウムＥＤＴＡを水に添加して溶解するまで混合した。 ２．上記水にＣａｒｂｏｐｏｌ Ｕｌｔｒｅｚ（商標）を分散させて、低速度で混合した。 ３．パートＢの成分を上記水に添加した。 ４．パートＣの成分を上記水に添加し、適度に加熱した後、混合した。ＴｉＯ２を混合して分散させた。 ５．混合したパートＡ、ＢおよびＣを６５℃に加熱した。 ６．パートＤの成分を６５℃に加熱し、すべての固形分が溶解するまで混合した。 ７．その後このパートＤを、前記混合したパートＡ、ＢおよびＣに添加した。温度が６５℃である間に、パートＥの成分を添加した。 ８．生成したエマルジョンを、温度が４０℃になるまで適度に撹拌しながら混合した。室温まで放冷した後、分析に使用した。 このようにして、ポリエチレングリコールと脂肪族アルコールエトキシレートの本発明の組合せが、ローション系化粧用組成物中でさえ、ジベンゾイルメタン誘導体を安定化することが容易に分かる。 このようにして、本発明が、安定な日焼け止め剤を含む組成物を提供することが、上記記述と実施例から分かる。また、本発明は、安定化されたジベンゾイルメタン日焼け止め剤を含有する組成物を提供し、この安定化作用は、化粧用組成物に従来使用されている成分を使って生じる。 本発明を、各種の具体的な好ましい実施態様で説明してきたが、当業者には、本発明の精神から逸脱することなく、各種の変型、置換、省略および変更を実施できることが分かる。 ａ）０．１から１０重量％のジベンゾイルメタンまたはこの誘導体、および ｂ）０．１から１０重量％のｐ−メトキシケイ皮酸またはこの誘導体 を含み、更に０．５から８重量％のＣ８からＣ１８脂肪族アルコールエトキシレートおよび０．５から８重量％のポリアルキレングリコールを含む光安定性化粧用組成物。 前記ジベンゾイルメタンまたはこの誘導体が０．１から５重量％存在する、請求項１に記載の光安定性化粧用組成物。 前記ｐ−メトキシケイ皮酸またはこの誘導体が０．１から５重量％存在する、請求項１または２に記載の光安定性化粧用組成物。 前記ｐ−メトキシケイ皮酸またはこの誘導体が０．１から２重量％存在する、請求項１から３のいずれか一項に記載の光安定性化粧用組成物。 前記ジベンゾイルメタンの誘導体が、４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、２−メチルジベンゾイルメタン、４−メチル−ジベンゾイルエタン、４−イソプロピルジベンゾイルメタン、４−ｔｅｒｔ−ブチルジベンゾイルメタン、２，４−ジメチルジベンゾイルメタン、２，５−ジメチルジベンゾイルメタン、４，４’−ジイソプロピルジベンゾイルメタン、２−メチル−５−イソプロピル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、２−メチル−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシ−ジベンゾイルメタン、２，４−ジメチル−４’−メトキシジベンゾイルメタンまたは２，６−ジメチル−４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシ−ジベンゾイルメタンから選択される、請求項１から４のいずれか一項に記載の光安定性化粧用組成物。 前記ジベンゾイルメタンの誘導体が４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタンである、請求項５に記載の光安定性化粧用組成物。 前記ｐ−メトキシケイ皮酸の誘導体が、２−エチル−ヘキシル−４−メトキシケイ皮酸、ｐ−メトキシケイ皮酸アンモニウム、ｐ−メトキシケイ皮酸ナトリウム、ｐ−メトキシケイ皮酸カリウムまたはｐ−メトキシケイ皮酸の第一級、第二級もしくは第三級のアミンの塩から選択される、請求項１から６のいずれか一項に記載の光安定性化粧用組成物。 前記ｐ−メトキシケイ皮酸の誘導体が２−エチルヘキシル−ｐ−メトキシケイ皮酸である、請求項７に記載の光安定性化粧用組成物。 前記Ｃ８からＣ１８脂肪族アルコールエトキレートが、０．５から４重量％存在する、請求項１から８のいずれか一項に記載の光安定性化粧用組成物。 前記ポリアルキレングリコールが、組成物に０．５から４重量％存在する、請求項１から９のいずれか一項に記載の光安定性化粧用組成物。 前記ポリアルキレングリコールが、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールまたはポリブチレングリコールから選択される、請求項１から１０のいずれか一項に記載の光安定性化粧用組成物。 前記ポリエチレングリコールの分子量が、２００から１０００００ダルトンである、請求項１２に記載の光安定性化粧用組成物。 前記分子量が、２００から１００００ダルトンである、請求項１３に記載の光安定性化粧用組成物。 【課題】ジベンゾイルメタンの日焼け止め剤を含む光安定性化粧用組成物の提供。【解決手段】ａ）０．１〜１０重量％のジベンゾイルメタン又はこの誘導体、及びｂ）０．１〜１０重量％のｐ−メトキシケイ皮酸又はこの誘導体を含み、更に０．５〜８重量％のＣ８〜Ｃ１８脂肪族アルコールエトキシレート及び０．５〜８重量％のポリアルキレングリコールを含む光安定性化粧用組成物。【選択図】なし