シリコンデバイス・FPD製造プロセスにおいて分子状汚染物質は多くの問題を引き起こします。たとえば露光工程に於ける レンズやミラーの曇り、フォトレジストの変質、ゲート酸化膜の絶縁不良、基板表面の薄膜密着不良などです。大気中に含まれる 極低濃度の酸性・塩基性汚染物質、揮発性有機汚染物質を効果的に取り除くことによりこれらの問題を解決することが可能です。

美術館・博物館での安全な文化財保護・保管は次世代に貴重な資産を受け継いでいくための重要な問題です。
建造物のコンクリートから発生するアンモニアなどの塩基性ガス、木材などから放出される酸性ガス、大気中の亜硫酸ガス、 窒素酸化物などが収蔵物に被害を与えます。ニッタのガスコンタミネーションコントロールシステムは極めて有効な除去対策 としての機能を発揮します。

飼育室での動物の糞尿、体臭から発生する臭気は独特な不快臭となっています。この臭気は、アンモニア、アミン類、硫化水素、 メチルメルカプタン、トリメチルアミンなどが複合したものです。このようなガス類を施設外に排出すると、周辺環境に対し悪影響 を及ぼすことになります。ガスコンタミネーションコントロールシステムはこれらの有害ガスに対して極めて効果的に働きかけ、 企業の社会的責任を果たしていくうえで求められるクリーンな排出環境を実現します。

医療施設における解剖・病理学的検査における臓器の防腐処理、または医薬製造室・医療器具等の滅菌作業に ホルムアルデヒドは使用されています。このホルムアルデヒドは目・呼吸器に対し刺激があり気管支炎や頭痛などを引き起こすと 同時に皮膚炎や、場合により鼻咽頭癌が発生する可能性があるため特定化学物質ならびに劇物に指定されています。
これらの施設においてはホルムアルデヒドに対する換気設備が必要ですが、ガスコンタミネーションコントロールシステムにより 生活環境、労働安全衛生環境をまもり、安全でウェルネスな環境を維持する事が可能です。

地熱発電のプロセスや製鉄・製紙・石油化学の製造プロセスで発生する硫化水素、亜硫酸ガス、窒素系化合物などの 腐食性ガスは制御系機器やNC、ロボット、自動搬送システム、ファクトリーコンピュータなどの様
々なインテリジェント機器に 搭載されたマイコンの基板にダメージを及ぼします。最悪の場合、それらはデータの消失や誤作動、停止などといった自体を引き起こす 可能性があります。ガスコンタミネーションコントロールシステムはこれらの問題からプロセスを防御します。

オフィスビル、病院、介護施設、商業施設、集合施設などさまざまな臭いの問題にもニッタのガスコンタミネーションコントロールは有効に機能します。
また植物の発生するエチレンガスを除去する事により、植物の貯蔵・運搬中の成熱、腐敗をコントロールする事が可能です。
他のシステムに比べ取り扱いが容易で維持管理にも手間が掛かりません。

環境の把握

実在の施設であれば、実測データを基に環境を測定します。
検討中の施設であれば豊富な経験データから予測を行います。

吸着メディアの選定

環境把握から想定された対象ガスに最適なメディアを選定します。

システムの設計（１）

必要とされる除去性能に応じたタイプや処理風量から、吸着剤フィルタを選定 します。

システムの設計（２）

吸着剤フィルタの設置環境やそり風量の状況に応じたフィルタユニットを選定 します。

吸着剤の分析サービス、改善効果の確認

一定期間のご使用の後、吸着剤をサンプリングして分析を行い、サンプリング 時点での吸着の性能評価およ び推定される寿命を報告します。 環境把握を行い、改善効果を確認します。